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专 利 |
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专利等名称
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专利申请公开番号 |
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特开2001－351551
特开2002－148225
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高灵敏度高分辨率半导体X射线检测器X射线光谱仪 2004年4月
环境试料检测用超高灵敏度萤光X射线分析装置的开发
中小企业创造性事业活动促进法的认定 2004年6月
经济产业省近畿经济局
平成16年度地域产业创造技术研究开发费补助金 2004年8月
2004年8月 成为大阪府中小企业支援中心 “起飞21” 事业认定企业。
事业名称：
“X射线单元技术开发以及通过该开发所进行的X射线分析装置的开发·制造·销售事业”
2005年8月～ |
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（独立行政法人）科学技术振兴机构 尖端计测分析技术·机器开发事业
担当“对极微量环境物质的直接·多元素·多成分的同时计测”机器开发项目的
“大气浮游粒子用萤光X射线分析装置开发中的装置制造” |
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2005年11月 荣获关西New Business协议会 NBK大奖：“高度技术部门奖”。 |
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本装置的开发以既有装置X射线1000倍的检测(强度)灵敏度为目标。 |
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开发 |
6.3倍 |
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开发 |
14.4倍 |
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开发 |
12倍 |
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Cd检测下限值LLD 1.53ppm |
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0.051ppm(600sec检测) |
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＊凭借新型光学系统重元素领域的高灵敏度得以实现
检测下限 : Pb,Hg,Br<1.0 ｐｐｍ
Cd <5.0 ｐｐｍ
＊通过大气•真空•He的置换可选择最佳条件
轻元素灵敏度提升（Si,P,S,Ca,Ti,Fe,Ni•••)
检测下限 ： 数量 ppm 水平
＊采用无需液氮的检测器
保养简便•运行成本降低
＊可与试料更换机连动（选项）
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